Dette området har utstyr for tynnfilmsvekst, mikro- og nano-litografiske metoder, samt forskjellige etsemetoder. Området holder renhetsklasse ISO 6 (10 00), samt ISO 5 (100) og er bygget i henhold til GMO II, laboratorieklasse 2.

Renromsarealet er utrustet for følgende typer aktivitet:

• Ultrafiolett fotolitografi
• Elektronstråle litofotografi
• Nanoimprinting / nanoprinting.
• Metall-deponering ved hjelp av resistiv varming / jonsputtring /elektronstrålevarming.
• Deponering av dielektrika
• Etsing ved hjelp av våtkjemiska metoder.
• Etsing ved hjelp av jon-etsing.

Spesialisert utstyr:

• En mønstertilpassere for fotolitografi.
• Et sveipelektronmikroskop for elektronstrålelitografi med laser stage for "stitching" (arbeid over stor areal)
• En mønstertilpassere for nanoimprinting /nanoprinting.
• Et elektronstråle basert deponeringsanlegg.
• Et sputterbasert deponeringsanlegg.
• En generell plasmaets (Ar/O/F)
• En plasmaets for klorbasert etsing (ICP-RIE)
• En PECVD (Plasma enhanced chemical vapour deposition)
• Utstyr for HF-etsing (Spin-etsing)
• Profilometer